検査分析機器
ＳＥＭ・ＥＤＳ分析装置
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特徴
真空中で試料表面に細かく絞った電子線を走査させ、試料表面から発生する二次電子、反射電子、Ｘ線などを検出することで、電子部品や機械部品などの試料の形態観察、微細構造の観察、元素分析を行うことが出来ます。
※ご要望があれば１検体より分析を承ります。
| 仕 様 | |
| 倍 率 | 5倍〜300,000倍 |
| 検 出 | 元素（B〜U） |
| 測定範囲 | 深さ（数μm）濃度（1%程度） |
| 分解能 | 3nm |
| 画像種類 | 二次電子像・反射電子像 |
検査分析機器
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真空中で試料表面に細かく絞った電子線を走査させ、試料表面から発生する二次電子、反射電子、Ｘ線などを検出することで、電子部品や機械部品などの試料の形態観察、微細構造の観察、元素分析を行うことが出来ます。
※ご要望があれば１検体より分析を承ります。
| 仕 様 | |
| 倍 率 | 5倍〜300,000倍 |
| 検 出 | 元素（B〜U） |
| 測定範囲 | 深さ（数μm）濃度（1%程度） |
| 分解能 | 3nm |
| 画像種類 | 二次電子像・反射電子像 |